光刻技术涉及操纵光在表面上精确蚀刻特征，通常用于制造计算机芯片和透镜等光学设备。但制造过程中的微小偏差往往会导致这些设备达不到设计者的意图。为了缩小设计与制造的差距，麻省理工学院和香港中文大学的研究人员使用机器学习构建了一个模拟特定光刻制造过程的数字模拟器。他们的技术利用了从光刻系统收集的真实数据，因此可以更准确地对系统如何制造设计进行建模。

　　研究人员将该模拟器与另一个数字模拟器集成到设计框架中，该数字模拟器模拟制造的设备在下游任务中的性能，例如使用计算相机生成图像。这些连接的模拟器使用户能够生产出与其设计更匹配并达到最佳任务性能的光学设备。这项技术可以帮助科学家和工程师为移动相机、增强现实、医学成像、娱乐和电信等应用创造更准确、更高效的光学设备。由于学习数字模拟器的管道利用了真实世界的数据，它可以应用于广泛的光刻系统。未来，研究人员希望增强他们的算法，为更复杂的设备建模，并使用消费者相机测试该系统。此外，他们希望扩展他们的方法，使其可以用于不同类型的光刻系统，例如使用深紫外光或极紫外光的系统。

　　资讯来源：麻省理工学院官网